研究者的目标是识别Ti合金中Net-AM微观结构的自然抗疲劳性山西日报:正版资料免费资料大全澳门第一期开什么，这非常具有挑战性，因为目前很难在不损害AM微结构的情况下实现无空隙状态/。问题是，目前AM工艺不能完全去除印刷微孔的存在（图1a左上），即使仔细优化印刷参数，以及进行后处理（如热等静压（HIP））以消除这种微孔，都会降低AM微观结构的独特特征。不仅β-晶粒内的板条变粗，而且独特的分级针状形态变得支离破碎（图1b）。为了实现无空隙AM微观结构，本研究开发了一种精心优化的后处理过程，称为Net-AM（NAMP）技术。基于准原位X射线断层成像（图1a左上和1d左上），消除了“打印”状态下所有危险的未熔合空隙；甚至NAMP处理后重新出现的微孔也被显著抑制。事实上，NAMP技术成功保持了棋盘式PBG的形态和印刷态的超细分级板条（图1d）。有效避免了在PBGBs附近富集的锯齿状α（图1d右下）。在不同的宏观和微观尺度上，印刷态微观结构和NAMP微观结构的总体特征非常相似。具体而言，印刷态具有比NAMP态更细的板条、更多的高弹性模量{0001}取向和更低的Schmid因子分布。因此，可以得出结论，NAMP基本消除了所有不属于原始AM微观结构的缺陷，产生了Net-AM微观结构。
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光敏树脂、塑料粉末材料（尼龙、尼龙玻纤、尼龙碳纤维、尼龙铝粉、Peek材料）、金属粉末材料（模具钢、钛合金、铝合金以及CoCrMo合金、铁镍合金）、其他材料（陶瓷、木头、玻璃等）、表面处理
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