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研究者的目标是识别Ti合金中Net-AM微观结构的自然抗疲劳性,这非常具有挑战性,因为目前很难在不损害AM微结构的情况下实现无空隙状态/中国搜索 :极品白丝 白皙mba。问题是,目前AM工艺不能完全去除印刷微孔的存在(图1a左上),即使仔细优化印刷参数,以及进行后处理(如热等静压(HIP))以消除这种微孔,都会降低AM微观结构的独特特征。不仅β-晶粒内的板条变粗,而且独特的分级针状形态变得支离破碎(图1b)。为了实现无空隙AM微观结构,本研究开发了一种精心优化的后处理过程,称为Net-AM(NAMP)技术。基于准原位X射线断层成像(图1a左上和1d左上),消除了“打印”状态下所有危险的未熔合空隙;甚至NAMP处理后重新出现的微孔也被显著抑制。事实上,NAMP技术成功保持了棋盘式PBG的形态和印刷态的超细分级板条(图1d)。有效避免了在PBGBs附近富集的锯齿状α(图1d右下)。在不同的宏观和微观尺度上,印刷态微观结构和NAMP微观结构的总体特征非常相似。具体而言,印刷态具有比NAMP态更细的板条、更多的高弹性模量{0001}取向和更低的Schmid因子分布。因此,可以得出结论,NAMP基本消除了所有不属于原始AM微观结构的缺陷,产生了Net-AM微观结构。
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